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                                                                  CPC-600離心清洗機

                                                                  • 專業攝像頭模組清洗設備,去除Holder,CMOS本體,Wafer表面之微塵顆粒

                                                                  產品描述

                                                                  CPC-600離心清洗機

                                                                  特性

                                                                  ●使用于Wafer, CMOS-本體, 基板, CCD外殼粉屑、 雜質.Holder,Holder+IR,Lens, VCM等清除作業
                                                                  ●可調變速離心式
                                                                  ●全自動製程人機界面控制
                                                                  ●透明防爆門,作業安全確保
                                                                  ●鏡面不銹鋼體封閉結構
                                                                  ●全系統儀表監測,符合ISO作業
                                                                  ●超大型Wash-Tank增加效率
                                                                  ●前置式作業,無二次污染
                                                                  ●1平方公尺設備空間,調配方便
                                                                  ●低噪音,無污染-無塵室專用設計
                                                                  ●.純水自動加壓過濾


                                                                  技術參數
                                                                  ●最大工作盤:Φ 600mm
                                                                  ●最大工件:200mm(L)×140mm(W)
                                                                  ●清洗方式:高壓沖洗+水氣二流體清洗
                                                                  ●干燥方式:高速離心脫水(離子風)
                                                                  ●工作盤旋轉數范圍:0--2840 r/min
                                                                  ●離心清洗釋出壓力:1.5—13.8kg
                                                                  ●純水過濾精度:0.1μm
                                                                  ●空氣過濾精度:0.01μm
                                                                  ●可清洗Particle顆料最小直徑:≧1um   98%以上
                                                                  ●設備材料:整機316鏡面不銹鋼
                                                                  ●清洗水供給壓力:>2.0Kgf
                                                                  ●清洗水流量設定范圍:<10.8L/min
                                                                  ●DI供給潔凈度要求:>17 MΩ
                                                                  ●潔凈壓縮空氣供給壓力:0.45—0.7mpa
                                                                  ●潔凈壓縮空氣潔凈度要求:過濾度在0.01μm /99.5%以上超潔凈壓縮空氣,殘余油<0.1ppm
                                                                  ●潔凈壓縮空氣最大消耗量:高壓沖洗時:N/A二流體清洗時:<100L/min
                                                                  ●送風管排氣容量:5.0m3/min
                                                                  ●控制方式:PLC+觸摸屏
                                                                  ●設備重量:480kg
                                                                  ●電源:380V 10A 50HZ
                                                                  ●設備尺寸:870mm(L)X1000mm(W)X1750mm(H)

                                                                  Copyright © 1996-2011 深圳市凱爾迪光電科技有限公司 版權所有

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                                                                   E-mail:info@kedtech.com.cn

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